Электронный каталог

Статья

Быкова, Н.
Экстремальный ультрафиолет / Быкова Н. // Эксперт. – 2019. – №44. – С.72-75. - 535665. – На рус. яз.

Технология для микроэлектроники нового поколения. Развитие полупроводниковой промышленности, которая берет курс на экстремальный ультрафиолет (EUV). Развитие отрасли по закону Мура, который в 1965 году предположил, что число транзисторов на интегральной схеме должно увеличиваться каждые два года, а их размеры - уменьшаться, из-за чего мощность вычислительных устройств будет расти по экспоненте. Основные участники рынка давно ввязались в гонку за рост числа элементов на чипе и уменьшение размеров этих элементов. Пока позволяет физика, они дают закону Мура новые шансы. Цель - совершенствование микропроцессоров и памяти по ключевым параметрам: скорости работы и теплоотдаче. Это и есть главные козыри современной микроэлектроники. За полувековой период действия закона Мура сменилось более двадцати этапов, на каждом из которых размеры транзисторов уменьшались примерно в 1,4 раза. Сегодняшняя планка миниатюризации, которую покоряют лидеры рынка, - семь миллиардных метра (7 нм) и ниже, в прошлом остаются рубежи 28 нм, 32 нм, 45 нм, 65 нм, а если вернуться совсем к истокам, то в 1971 году нормой считался размер десять микрометров. Российский задел по EUV пока связан, прежде всего, с фундаментальной наукой и компонентной базой.


Ключевые слова = ЗАРУБЕЖНЫЕ СТРАНЫ
Ключевые слова = ЗАРУБЕЖНЫЙ ОПЫТ
Ключевые слова = ФИЗИКА
Ключевые слова = ЭКОНОМИКА ПРОМЫШЛЕННОСТИ, ТРАНСПОРТА И СВЯЗИ
Ключевые слова = РОССИЯ
Ключевые слова = СТАТИСТИКА
Ключевые слова = СОВЕРШЕНСТВОВАНИЕ
Ключевые слова = ТЕХНОЛОГИЯ
Ключевые слова = МИКРОЭЛЕКТРОНИКА
Ключевые слова = МИКРОПРОЦЕССОР