Электронный каталог

Статья

Суханов, Д.
Расширяя границы существующих систем безмасковой литографии: технологии MLEtm / Суханов Д. // Электроника: наука, технология, бизнес. – 2020. – №4. – С.114-120. - 544515. – На рус. яз.

Анализ разработки новой технологии безмаскового экспонирования MLEtm компанией EV Group, которая позволит удовлетворить современные требования к гибкости проектирования новых изделий и сокращению циклов разработки, её можно будет использовать в крупносерийном производстве микроэлектроники. Основные требования к литографии для различных сфер микроэлектроники, методы экспонирования. Основные принципы экспонирования и ключевые аспекты безмасковой литографии. Проблемы и трудности, возникающие на литографическом пути. Оценка перспективности перехода на новую схему литографии.


Ключевые слова = ЗАРУБЕЖНЫЙ ОПЫТ
Ключевые слова = ИНОСТРАННАЯ ОРГАНИЗАЦИЯ (КОМПАНИЯ)
Ключевые слова = ФОТОЛИТОГРАФИЯ
Ключевые слова = ТЕХНИКА. ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ В ОТРАСЛЯХ ПРОМЫШЛЕННОСТИ
Ключевые слова = ПРОДУКЦИЯ
Ключевые слова = ПРОГНОЗ
Ключевые слова = МЕТОДИКА
Ключевые слова = ОЦЕНКА
Ключевые слова = ТЕХНОЛОГИЯ
Ключевые слова = БИОМЕДИЦИНА
Ключевые слова = ТЕХНИКО-ЭКОНОМИЧЕСКАЯ ОЦЕНКА
Ключевые слова = ЦИФРОВЫЕ ТЕХНОЛОГИИ
Ключевые слова = МИКРОЭЛЕКТРОНИКА
Ключевые слова = ПРОЕКТИРОВАНИЕ
Ключевые слова = ПЕЧАТНАЯ ЭЛЕКТРОНИКА
Новые поступления и ретрофонд = Статьи из периодических изданий. 2020 год.