Электронный каталог

rus
НТБ Минпромторга России
Режим работы
Контактная информация

Поиск :

  • Поиск
  • Поиск одной строкой
  • Помощь

  • Разделы фонда

  • Книги по ТЯЖЕЛОЙ ПРОМЫШЛЕННОСТИ
  • Книги 2022
  • Книги 2023
  • Книги 2024
  • Ретрофонд
  • Статьи из информационных обзоров за 2023
  • Статьи из информационных обзоров за 2024

  • Справочники

  • Авторы
  • Издательства
  • Серии
  • Дерево рубрик

  • Статистика поисков
  • Статистика справок

Личный кабинет :


Самозапись

Электронный каталог: Суханов, Д. - Оптимизация гальванических процессов в современном полупроводниковом производстве

Суханов, Д. - Оптимизация гальванических процессов в современном полупроводниковом производстве

Нет экз.
Оптимизация гальванических процессов в современном полупроводниковом производстве
Статья
Автор:
Суханов, Д.
Электроника: наука, технология, бизнес (электронная версия): Оптимизация гальванических процессов в современном полупроводниковом производстве : ч. 1-2
2021 г.
ISBN отсутствует

На полку На полку


Статья

Суханов, Д.
Оптимизация гальванических процессов в современном полупроводниковом производстве: ч. 1-2 / Суханов Д. // Электроника: наука, технология, бизнес (электронная версия). – 2021. – №9. – С.86-93; № 10. - С.152-157. - 572122. – На рус. яз.

Основные принципы и способы оптимизации процессов электрохимического осаждения (ECD - electrochemical deposition), или гальванических процессов. Фундаментальное понимание основной электролитической ячейки, обеспечивающей основу для более глубокого изучения процессов нанесения покрытий в полупроводниковой промышленности. Как выглядит современный реактор для электролитических процессов на полупроводниковом производстве. Связь между силой тока и размерами элементов, на которые необходимо осадить металлическую пленку. Как добиться требуемой равномерности покрытия. Профиль электрического поля - параллельность и радиальная симметрия. Распределение тока через пластину. Современный реактор. Профиль электрического поля в современном реакторе системы ECD. Доступность катионов. На что влияет концентрация катионов в объеме реактора. Доступность катионов в диффузионном слое. Диффузионный слой. Оценка важности движения и потока электролита. Движение пластины. Движение и поток электролита. Ограничение плотности тока и к чему это может привести. Типичные профили сканирования диаметра пластины, рекомендации по устранению проблем, которые могут быть обнаружены. Обеспечение однородности по пластине. Погружение. Расход химии и скорость вращения. Современная ECD-система для серийного производства RENA EPA.


Ключевые слова = АНАЛИЗ ТЕХНИЧЕСКИЙ
Ключевые слова = АНАЛИЗ ФАКТОРНЫЙ
Ключевые слова = АНАЛИЗ ОТРАСЛЕВОЙ
Ключевые слова = ГАЛЬВАНОТЕХНИКА
Ключевые слова = ОПТИМИЗАЦИЯ
Ключевые слова = ПОЛУПРОВОДНИКОВАЯ ПРОМЫШЛЕННОСТЬ
Ключевые слова = ПРОИЗВОДСТВЕННЫЙ ПРОЦЕСС
Ключевые слова = РОССИЯ
Ключевые слова = ТЕХНИЧЕСКИЕ СРЕДСТВА
Ключевые слова = ТЕХНИЧЕСКОЕ ОСНАЩЕНИЕ
Ключевые слова = ТЕХНИЧЕСКОЕ РЕШЕНИЕ
Ключевые слова = ЭЛЕКТРОИЗОЛЯЦИОННЫЙ МАТЕРИАЛ
Ключевые слова = ЭЛЕКТРОЛИЗЕР
Ключевые слова = ЭЛЕКТРОХИМИЯ
Ключевые слова = ТЕХНИКА. ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ В ОТРАСЛЯХ ПРОМЫШЛЕННОСТИ
Ключевые слова = Статьи из периодических изданий. 2022 год.


Привязано к:

Отобрать для печати: страницу | инверсия | сброс | печать(0)

Электроника: наука, технология, бизнес (электронная версия)
Нет экз.
Выпуск

Электроника: наука, технология, бизнес (электронная версия) №9
2021 г.
ISBN отсутствует
ФБУ НТБ Минпромторга России : Иркутская


На полку На полку


© Все права защищены ЗАО "Компания Либэр" , 2009 - 2025  v.20